美國BROOKS流量計GP200 系列金屬密封壓力式質量流量控制器

所有的表現。沒有任何限制。
GP200 系列是第一款完全不敏感的基于壓力的質量流量控制器 (P-MFC)，專為半導體制造中的先進蝕刻和沉積工藝而設計。

GP200 系列 P-MFC 采用專利架構，克服了傳統 P-MFC 的局限性，即使在輸送低蒸氣壓工藝氣體時也能提供最精確的工藝氣體輸送。它包括幾個獨特的設計方面，包括與下游閥門架構相結合的集成壓差傳感器，可在行業(yè)中最廣泛的操作條件下實現最精確的工藝氣體輸送。

由于 GP200 系列支持如此廣泛的工藝條件，它可以用作許多傳統 P-MFC 和熱 MFC 的直接替代和升級。它降低了氣體輸送系統的復雜性和擁有成本，因為它消除了對壓力調節(jié)器和傳感器等組件的需求。

特征

真正的差壓測量
降低入口壓力運行
下游閥門結構
匹配的瞬態(tài)響應
零泄漏控制閥
MultiFlo TM技術提供了無與倫比的靈活性——一個設備可以針對數千種不同的氣體和流量范圍配置進行編程，而無需從氣體管線中移除 MFC 或影響精度
本地顯示顯示流量、溫度、壓力和網絡地址
DeviceNet TM、EtherCAT®、RS-485 L-Protocol 和模擬接口

好處
通過消除匹配和補償兩個獨立壓力傳感器的要求，GP200 差壓技術降低了測量不確定性，從而提高了準確性、可重復性和漂移性能。
由于專為低壓差測量而優(yōu)化的 GP200 差壓傳感器，現在使用 P-MFC 可以在較低的入口壓力下實現更安全的晶圓廠操作。
下游閥門結構確保精度獨立于下游壓力，使流量輸送到高達 1200 Torr 的壓力。快速關閉閥門解決了上游 MFC 閥門設計中出現的非生產性配方等待時間或“尾部效應”，這些閥門需要額外的時間來排出其內部氣體體積。
超快、高度可重復的上升和下降流動穩(wěn)定時間可在先進的高循環(huán)沉積和蝕刻工藝中實現更嚴格的工藝控制。
閥門關閉性能提高 100 倍
使用 MultiFlo TM，MFC 滿量程流量范圍通?？梢园?3:1 的系數重新按比例縮小，而不會影響精度、調節(jié)比或規(guī)格泄漏，以實現最佳工藝和庫存靈活性 
方便的用戶顯示和獨立的診斷/服務端口有助于設備安裝、監(jiān)控和故障排除

美國BROOKS流量計主要應用
半導體制造
蝕刻
化學氣相沉積 (CVD)
需要高純度全金屬流路的氣流控制應用